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熱門關(guān)鍵詞：
鎳鈦基材/鍍膜基層掃描分析
發(fā)布時(shí)間：2022-08-04 點(diǎn)擊次數(shù)：1227
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樣品描述:
鍍膜樣品1個(gè)
檢測(cè)目的:
檢測(cè)鎳鈦合金鍍膜層(C、Si、Ni、Ti)變化趨勢(shì)。
檢測(cè)方法:
ASTM E827-08 :由AES峰判別元素的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范;
ASTM E1078- 14(20):表面分析中樣品準(zhǔn)備和安裝的標(biāo)準(zhǔn)指南;
ASTM E1829- 14(20):表面分析前樣品處理的標(biāo)準(zhǔn)指南;
ASTM E996- 19 :AES和XPS數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范;
ASTM E1127-08(15):AES分析元素層深分布的標(biāo)準(zhǔn)指南.
檢測(cè)儀器:
儀器信號(hào):PHI 710 AES
電子槍:電子束電壓:5kV;電子束電流:10nA.
離子槍:濺射電壓:2kV;濺射面積:1mmx1mm
相對(duì)SiO2濺射速率:29. 7 nm/min
檢測(cè)結(jié)果:
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